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J-GLOBAL ID：200903034947983960

ポジ型感放射線性組成物

Inventor： 落合 為一 ,  亀山 泰弘 ,  新実 高明 ,  藤田 淳 ,  田中 由紀
Applicant, Patent owner： 三菱化学株式会社
Agent (1)： 長谷川 一 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995350719
Publication number (International publication number)：1997179301
Application date： Dec. 26, 1995
Publication date： Jul. 11, 1997
Summary：

【要約】【課題】本発明は遠紫外領域の光を用いたハーフミクロンリソグラフィーに対応できる高解像力を有し、しかも露光と露光後ベークとの間の引置き時間に対する安定性が良好な化学増幅型ポジ型フォトレジストを提供することにある。【解決手段】 構造単位(I)を含む樹脂A、構造単位(II)を含む樹脂Bおよび光または電子線などの放射線により酸を発生する化合物Cを主成分として含有することよりなるポジ型感放射線性組成物。【化1】(上記式中、R1、R2、R3、R7、R8、及びR9は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表わし、R4及びR5は水素原子又は炭素数1〜10のアルキル基を表わし、R6及びR10は炭素数1〜10のアルキル基を表わす。また、R4とR5或いはR4とR6とが互いに結合して、炭素数3〜10の環を形成していてもよい。)

Claim (excerpt)：

構造単位(I)を含む樹脂A、構造単位(II)を含む樹脂Bおよび光または電子線などの放射線により酸を発生する化合物Cを主成分として含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。【化1】(上記式中、R1、R2、R3、R7、R8、及びR9は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表わし、R4及びR5は水素原子又は炭素数1〜10のアルキル基を表わし、R6及びR10は炭素数1〜10のアルキル基を表わす。また、R4とR5あるいはR4とR6とが互いに結合して、炭素数3〜10の環を形成していてもよい。)

IPC (4)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (14)

• 感光性組成物、及びこれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-354206   Applicant：株式会社東芝
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-286168   Applicant：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-094443   Applicant：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト膜形成用塗布液
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-149285   Applicant：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト膜形成用塗布液
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-172899   Applicant：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-175638   Applicant：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-191020   Applicant：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-305113   Applicant：東京応化工業株式会社
• 化学増幅ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-195615   Applicant：信越化学工業株式会社
• 化学増幅ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-266776   Applicant：信越化学工業株式会社
• 化学増幅ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-331723   Applicant：信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社
• 高分子化合物及び化学増幅ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-090203   Applicant：信越化学工業株式会社
• 感放射線性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-314061   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• ポリマー組成物及びこれを含んで成るレジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-354985   Applicant：和光純薬工業株式会社