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J-GLOBAL ID:200903056571657253
多層膜反射鏡、軟X線光学機器、露光装置及びその清掃方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
渡部 温 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002025160
Publication number (International publication number):2003227898
Application date: Feb. 01, 2002
Publication date: Aug. 15, 2003
Summary:
【要約】【課題】 表面の炭素コンタミネーションの抑制された多層膜反射鏡、軟X線光学機器、露光装置及びその清掃方法を提供すること。【解決手段】 本発明の多層膜反射鏡は、軟X線領域での屈折率と真空の屈折率との差が大きい物質からなる第1層3と前記屈折率と真空の屈折率との差が小さい物質からなる第2層2とを基板4上に交互に積層してなり、多層膜の最上層上に光触媒材料で形成された保護層1を具備する。本発明の多層膜反射鏡によれば、表面の炭素のコンタミネーションを除去できる。
Claim (excerpt):
軟X線領域での屈折率と真空の屈折率との差が大きい物質からなる第1層と前記屈折率と真空の屈折率との差が小さい物質からなる第2層とを基板上に交互に積層してなる多層膜を備える反射鏡であって、更に、前記多層膜の最上層上に形成された光触媒材料からなる保護層を備えることを特徴とする多層膜反射鏡。
IPC (7):
G21K 1/06
, G02B 5/08
, G02B 17/00
, G03F 7/20 503
, G03F 7/22
, G21K 5/02
, H01L 21/027
FI (7):
G21K 1/06 C
, G02B 5/08 A
, G02B 17/00 Z
, G03F 7/20 503
, G03F 7/22 H
, G21K 5/02 X
, H01L 21/30 531 A
F-Term (20):
2H042DA01
, 2H042DA12
, 2H042DA18
, 2H042DB00
, 2H042DC02
, 2H042DE00
, 2H087KA21
, 2H087NA05
, 2H087TA02
, 2H087UA09
, 2H097AA02
, 2H097AB09
, 2H097BA04
, 2H097BA10
, 2H097CA15
, 2H097EA01
, 2H097GB00
, 2H097LA10
, 5F046GA03
, 5F046GB01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (20)
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特開昭63-088503
-
X線露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-295457
Applicant:株式会社ニコン
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Application number:特願平11-093523
Applicant:キヤノン株式会社
-
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Application number:特願平8-267703
Applicant:株式会社ニコン
-
特開平3-075600
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Application number:特願2001-262809
Applicant:エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ, コニンクリユケフィリップスエレクトロニクスエヌ.ブイ.
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X線マスク
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-282181
Applicant:日本電信電話株式会社, エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社
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光露光システム
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Application number:特願平8-266048
Applicant:日本電信電話株式会社
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X線取り出し窓
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Application number:特願平8-302802
Applicant:日本電信電話株式会社, エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社
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Application number:特願平11-119631
Applicant:キヤノン株式会社
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Application number:特願平11-133651
Applicant:ソニー株式会社
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荷電粒子ビーム装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-092601
Applicant:日本電子株式会社
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特開平4-310899
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特開平3-038602
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露光装置とデバイス製造方法、ならびに該露光装置の光学素子クリーニング方法
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Application number:特願平10-023278
Applicant:キヤノン株式会社
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光学装置及びデバイス製造方法
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Application number:特願平11-283569
Applicant:キヤノン株式会社
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Application number:特願平9-002838
Applicant:株式会社ニコン
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Application number:特願平11-185696
Applicant:株式会社ニコン
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Application number:特願平9-097228
Applicant:キヤノン株式会社
-
露光装置
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Application number:特願平9-366723
Applicant:キヤノン株式会社
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