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J-GLOBAL ID:200903056571657253

多層膜反射鏡、軟X線光学機器、露光装置及びその清掃方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 渡部 温 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002025160
Publication number (International publication number):2003227898
Application date: Feb. 01, 2002
Publication date: Aug. 15, 2003
Summary:
【要約】【課題】 表面の炭素コンタミネーションの抑制された多層膜反射鏡、軟X線光学機器、露光装置及びその清掃方法を提供すること。【解決手段】 本発明の多層膜反射鏡は、軟X線領域での屈折率と真空の屈折率との差が大きい物質からなる第1層3と前記屈折率と真空の屈折率との差が小さい物質からなる第2層2とを基板4上に交互に積層してなり、多層膜の最上層上に光触媒材料で形成された保護層1を具備する。本発明の多層膜反射鏡によれば、表面の炭素のコンタミネーションを除去できる。
Claim (excerpt):
軟X線領域での屈折率と真空の屈折率との差が大きい物質からなる第1層と前記屈折率と真空の屈折率との差が小さい物質からなる第2層とを基板上に交互に積層してなる多層膜を備える反射鏡であって、更に、前記多層膜の最上層上に形成された光触媒材料からなる保護層を備えることを特徴とする多層膜反射鏡。
IPC (7):
G21K 1/06 ,  G02B 5/08 ,  G02B 17/00 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/22 ,  G21K 5/02 ,  H01L 21/027
FI (7):
G21K 1/06 C ,  G02B 5/08 A ,  G02B 17/00 Z ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/22 H ,  G21K 5/02 X ,  H01L 21/30 531 A
F-Term (20):
2H042DA01 ,  2H042DA12 ,  2H042DA18 ,  2H042DB00 ,  2H042DC02 ,  2H042DE00 ,  2H087KA21 ,  2H087NA05 ,  2H087TA02 ,  2H087UA09 ,  2H097AA02 ,  2H097AB09 ,  2H097BA04 ,  2H097BA10 ,  2H097CA15 ,  2H097EA01 ,  2H097GB00 ,  2H097LA10 ,  5F046GA03 ,  5F046GB01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (20)
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