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J-GLOBAL ID：200903018267523918

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法

Inventor：
岩井 武

About 岩井 武

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久保田 尚孝

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藤村 悟史

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宮入 美和

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羽田 英夫

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Applicant, Patent owner：
東京応化工業株式会社

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Agent (5)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005001369
Publication number (International publication number)：2005128572
Application date： Jan. 06, 2005
Publication date： May. 19, 2005
Summary：
【課題】エッチング時の表面荒れ、ラインエッジラフネス、解像性、焦点深度幅が広いポジ型レジスト組成物とレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】 樹脂(A)と、酸発生剤(B)と、有機溶剤(C)とを含み、前記(A)成分が、メタアクリル酸エステルから誘導される構成単位とアクリル酸エステルから誘導される構成単位とを共に有し、多環式基含有酸解離性溶解抑制基を含み、(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位、ラクトン含有単環又は多環式基を含み、(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位及び、水酸基含有多環式基を含み、(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位を有し、さらに 前記酸解離性溶解抑制基、前記ラクトン含有単環又は多環式基、前記水酸基含有多環式基以外の多環式基を含み、かつ(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a4)を含むポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
エステル側鎖部に多環式基含有酸解離性溶解抑制基を有し、かつ(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位を主鎖に有する、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤(C)とを含むポジ型レジスト組成物であって、 前記(A)成分が、メタアクリル酸エステルから誘導される構成単位とアクリル酸エステルから誘導される構成単位とを、共に有し、 前記(A)成分が、 多環式基含有酸解離性溶解抑制基を含み、かつ(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位、 ラクトン含有単環又は多環式基を含み、かつ(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位及び、 水酸基含有多環式基を含み、かつ(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位を有し、かつ、 前記(A)成分が、 さらに 前記多環式基含有酸解離性溶解抑制基、前記ラクトン含有単環又は多環式基、前記水酸基含有多環式基、以外の多環式基を含み、かつ(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位(a4)を含むことを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (4)：
G03F7/039 ,  C08F20/18 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027
FI (5)：
G03F7/039 601 ,  C08F20/18 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R
F-Term (20)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100BA03P ,  4J100BC09P ,  4J100BC12P ,  4J100BC53P ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (8)
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Cited by examiner (7)
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