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J-GLOBAL ID：200903024910644345

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法

Inventor：
岩井 武

About 岩井 武

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久保田 尚孝

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藤村 悟史

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宮入 美和

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羽田 英夫

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Applicant, Patent owner：
東京応化工業株式会社

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Agent (5)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005001370
Publication number (International publication number)：2005128573
Application date： Jan. 06, 2005
Publication date： May. 19, 2005
Summary：
【課題】 エッチング時の表面荒れ、ラインエッジラフネスが少なく、解像性に優れ、焦点深度幅が広い、化学増幅型のポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】エステル側鎖部に多環式基含有酸解離性溶解抑制基を有し、かつ(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位を主鎖に有する、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤(C)とを含むポジ型レジスト組成物であって、前記(A)成分が、多環式基含有酸解離性溶解抑制基を含み、かつアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)と、 多環式基含有酸解離性溶解抑制基を含み、かつメタクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1')の、両方を有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
エステル側鎖部に多環式基含有酸解離性溶解抑制基を有し、かつ(メタ)アクリル酸エステルから誘導される構成単位を主鎖に有する、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤(C)とを含むポジ型レジスト組成物であって、 前記(A)成分が、 多環式基含有酸解離性溶解抑制基を含み、かつアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)と、 多環式基含有酸解離性溶解抑制基を含み、かつメタクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1')の、両方を有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3)：
G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027
FI (4)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R
F-Term (15)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (8)
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Cited by examiner (12)
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