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J-GLOBAL ID：200903084082553309

ポジ型紫外感光性樹脂組成物及びそれを用いたレジストパタ-ン形成方法

Inventor：
今井玄児

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福田 立子

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高尾 俊郎

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池田 圭一

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山本 喜博

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Applicant, Patent owner：
三井化学株式会社

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Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999187328
Publication number (International publication number)：2000187325
Application date： Jul. 01, 1999
Publication date： Jul. 04, 2000
Summary：
【要約】【課題】 工業的に入手可能な4-(1-メチルエテニル)フェノールを構造単位に有し、レジスト材料に有用なポジ型紫外感光性樹脂組成物を提供することである。【解決手段】 感光用樹脂、エーテル結合含有オレフィン性不飽和化合物及び光酸発生剤を含有してなるポジ型紫外感光性樹脂組成物において、感光用樹脂として、4-(1-メチルエテニル)フェノール(a)、アクリル酸エステル類(b)及びアクリル酸類(c)からなる共重合体を用いてなるポジ型紫外感光性樹脂組成物。
Claim (excerpt)：
感光用樹脂、エーテル結合含有オレフィン性不飽和化合物及び光酸発生剤を含有してなるポジ型紫外感光性樹脂組成物において、感光用樹脂として、化学式(1)〔化1〕、【化1】化学式(2)〔化2〕【化2】(式中、R1は水素またはメチル基、R2は炭素数1ないし6の直鎖もしくは分岐の無置換アルキル基または炭素数1ないし6の直鎖もしくは分岐の置換アルキル基)及び化学式(3)〔化3〕【化3】(式中、R1 は水素またはメチル基)で示される構成単位を有する共重合体であって、a=0.05ないし0.7、b=0.15ないし0.8及びc=0.01ないし0.5であり、かつa+b+c=1であることを特徴とするポジ型紫外感光性樹脂組成物。
IPC (8)：
G03F 7/039 ,  C08F 2/50 ,  C08F212/14 ,  C08F220/06 ,  C08F220/10 ,  C08L 25/18 ,  C08L 33/00 ,  G03F 7/027 502
FI (8)：
G03F 7/039 ,  C08F 2/50 ,  C08F212/14 ,  C08F220/06 ,  C08F220/10 ,  C08L 25/18 ,  C08L 33/00 ,  G03F 7/027 502
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (29)
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