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J-GLOBAL ID：200903096693120058

ディフェクト抑制ポジ型レジスト塗布液

Inventor：
佐藤 和史

About 佐藤 和史

, 
前盛 諭

About 前盛 諭


Applicant, Patent owner：
東京応化工業株式会社

About 東京応化工業株式会社


Agent (1)： 阿形 明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999074098
Publication number (International publication number)：2000267269
Application date： Mar. 18, 1999
Publication date： Sep. 29, 2000
Summary：
【要約】【課題】 感度、解像性、耐熱性、焦点深度幅特性、レジストパターン断面形状、引置経時安定性及び基板依存性などのレジスト特性が良好である上、特に現像後のディフェクトの発生を抑制するポジ型レジスト塗布液を提供する。【解決手段】 (A)水酸基が酸解離性基で保護されたヒドロキシスチレン単位と水酸基が保護されていないヒドロキシスチレン単位とを有する重合体及び(B)酸発生剤を、(C)プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートと過剰量の沸点80〜200°Cのヒドロキシル系有機溶剤とからなる混合溶剤に溶解させて、ディフェクト抑制ポジ型レジスト塗布液とする。
Claim (excerpt)：
(A)水酸基が酸解離性基で保護されたヒドロキシスチレン単位と水酸基が保護されていないヒドロキシスチレン単位とを有する重合体及び(B)放射線の照射により酸を発生する化合物を、(C)有機溶剤に溶解してなるポジ型レジスト塗布液において、上記(C)成分として、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートと50重量%を超える割合の沸点80〜200°Cのヒドロキシル系有機溶剤との混合溶剤を用いることを特徴とするディフェクト抑制ポジ型レジスト塗布液。
IPC (3)：
G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F 7/004 501 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (16)：
2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA10 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (15)
  • 感放射線性樹脂組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-244856   Applicant：ジェイエスアール株式会社
  • 感放射線性樹脂組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-187223   Applicant：ジェイエスアール株式会社
  • 化学増幅型感放射線性樹脂組成物
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-291521   Applicant：日本合成ゴム株式会社
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