放射線源により生じる粒子の除去

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (4件)：伊東忠彦 , 大貫進介 , 伊東忠重 , 松本晃一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-505681
公開番号（公開出願番号）：特表2007-531296
出願日： 2005年03月18日
公開日（公表日）： 2007年11月01日
要約：

放射線源(10)と、ミラーチャンバ(18)の壁(16)に配置された粒子トラップ(20)の間に、高質量排出量で誘導された第1のガス(22)によって、約20nmまでの波長を有する短波長放射線(12)の発生の際に、放射線源(10)により形成される原子、分子、クラスター、イオン等のコンタミネーション粒子(14)を除去する方法を示す。この方法は、リソグラフィ装置または顕微鏡に使用される。光学装置および/または被照射品をコンタミネーションを防止するため、当該方法では、ミラーチャンバ(18)内に、第2のガス(24)が導入され、第2のガスの圧力は、少なくとも第1のガス(22)の圧力と等しくなるように調整される。

請求項（抜粋）：

放射線源と、ミラーチャンバの壁に配置された粒子トラップの間に、高質量排出量で誘導された第1のガスによって、約20nmまでの波長を有する短波長放射線の発生の際に、前記放射線源により形成される原子、分子、クラスター、イオン等のコンタミネーション粒子を除去する方法であって、前記ミラーチャンバ内に、第2のガスが導入され、該第2のガスの圧力は、該圧力が前記第1のガスの圧力と少なくとも同等となるように調整されることを特徴とする方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20

FI (3件)：

H01L21/30 531A , H01L21/30 531S , G03F7/20 521

Fターム (5件)：

5F046GA03 , 5F046GA04 , 5F046GA07 , 5F046GA09 , 5F046GC03

引用特許：

出願人引用 (2件)

国際公開第WO00/28384号パンフレット
国際公開第WO02/054153号パンフレット

審査官引用 (24件)

少なくとも一つの光学要素を洗浄する方法および装置
公報種別：公表公報出願番号：特願2006-530881 出願人：コーニンクレッカフィリップスエレクトロニクスエヌヴィ
汚染を抑制したリソグラフィ装置、デバイス製造方法、及びこれらによって製造されたデバイス
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-325789 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
特開昭61-179046

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