特許
J-GLOBAL ID：200903004748033913

描画装置

発明者：
三好 久司

三好 久司 について


出願人/特許権者：
ペンタックス株式会社

ペンタックス株式会社 について


代理人 (2件)： 松浦 孝 ,  小倉 洋樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-115219
公開番号（公開出願番号）：特開2005-300812
出願日： 2004年04月09日
公開日（公表日）： 2005年10月27日
要約：
【課題】 スループットを下げることなく高解像度のパターン形成を実現しながら、任意の描画パターンを効率よく基板へ形成する。【解決手段】 8つの露光ヘッド12A〜12Hを互いに基板SWの長手方向に沿って距離間隔をおいて配置し、連続的に搬送される基板SWに規定された走査バンドS1〜S8に沿って露光動作を実行する。パターンデータ処理部は、所定の描画パターンに応じたパターンデータを分割し、分割パターンデータを生成する。イメージ生成処理部は、ベクタデータである分割パターンデータをラスタデータに変換し、順次ビットマップメモリへ書き込む。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
長手方向に連続的に搬送されるパターン形成用基板へ直接描画する描画システムであって、 パターン形成のため光を放射する光源と、 複数の光変調素子を2次元配列させ、前記基板の長手方向に沿って規定される前記複数の走査バンドに対し、それぞれ前記光源からの光を前記複数の光変調素子の位置に応じて投影する複数の光変調ユニットと、 所定の描画パターンに応じた設計用パターンデータを前記複数の走査バンドに応じて分割し、一連の分割パターンデータを生成する第1のデータ処理手段と、 前記描画パターンを前記基板の長手方向に沿って繰り返し描画するため、前記一連の分割パターンデータを、前記複数の光変調素子の動作タイミングを規定する一連の描画用分割データへ次々に変換する第2のデータ処理手段と、 前記一連の描画用分割データに基いて、前記複数の光変調ユニットをそれぞれ独立制御する描画手段とを備え、 前記複数の光変調ユニットの照射領域である複数の露光エリアにおいて、隣接する露光エリアが前記基板の長手方向に沿って互いに所定距離だけ離れるように、前記複数の光変調ユニットが配置され、 前記第2のデータ処理手段が、前記複数の露光エリアそれぞれの位置に応じて、前記一連の分割パターンデータをそれぞれ独立して処理することを特徴とする描画システム。
IPC (1件)：
G03F7/20
FI (1件)：
G03F7/20 501
Fターム (2件)：
2H097AA03 ,  2H097BB10
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (24件)
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