ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：小島隆司 , 重松沙織 , 小林克成 , 石川武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-107100
公開番号（公開出願番号）：特開2005-321765
出願日： 2005年04月04日
公開日（公表日）： 2005年11月17日
要約：

【課題】高エネルギー線での露光において高感度で高解像性を有し、ラインエッジラフネスが小さく、現像後の残渣が少ないポジ型レジスト材料を提供する。【解決手段】式(1a)、(2a)及び(1b)の繰り返し単位を有する高分子化合物を含有するレジスト材料。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1a)、(2a)及び(1b)で示される繰り返し単位をそれぞれ有する高分子化合物を含有するレジスト材料。

IPC (3件)：

G03F7/039 , G03F7/004 , H01L21/027

FI (3件)：

G03F7/039 601 , G03F7/004 501 , H01L21/30 502R

Fターム (12件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CC03 , 2H025CC20 , 2H025FA01 , 2H025FA12

引用特許：

出願人引用 (11件)

特公平2-27660号公報
ラクトン構造を有する新規(メタ)アクリレート化合物、重合体、フォトレジスト材料、及びパターン形成法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-179614 出願人：信越化学工業株式会社
画像形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-223637 出願人：キヤノン株式会社

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審査官引用 (8件)

含フッ素環状化合物、含フッ素高分子化合物、それを用いたレジスト材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-044142 出願人：セントラル硝子株式会社
高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-393328 出願人：信越化学工業株式会社, 松下電器産業株式会社, セントラル硝子株式会社
フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-128938 出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション

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