特許
J-GLOBAL ID:200903031230914778
平面電子表示装置及びその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
奥山 雄毅
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-051703
公開番号(公開出願番号):特開2007-072428
出願日: 2006年02月28日
公開日(公表日): 2007年03月22日
要約:
【課題】Cuに添加する添加元素が、Cu部材と接触するガス雰囲気又は固体に含まれる酸素と優先的に反応してCuの酸化を抑止する酸化被膜を形成することができる高導電率の配線、電極等を備える平面電子表示装置を提供する。【解決手段】基板上にマトリックス状に交叉する電極線17、18と、その交点に配置された液晶画素20と、外部の駆動回路に接続された端子電極とを有するアクティブマトリックス方式の液晶表示装置において、電極線17、18、電極、配線層、端子電極のうちの少なくとも一つを銅を主成分とし、基板との界面に銅に添加した添加元素の酸化物層を形成する銅合金で形成する。この添加元素は、酸化物形成自由エネルギーがCuより小さく、Cu中における拡散係数がCuの自己拡散係数より大きく、Cu中における1at.%当たりの電気抵抗上昇率が5μΩ・cm以下であり、Cu中における活量係数γが、活量係数γ>1の関係を満足する。【選択図】図4
請求項(抜粋):
基板上に、画像を形成する最小単位としての画素をマトリックス状に複数配列した画素部を有する平面電子表示装置において、
前記画素部で交叉する信号電極と、走査電極と、前記信号電極又は前記走査電極と外部回路とを接続する端子電極とのうちの少なくとも一つの電極の配線材料として、Cuを主成分とし、その表面又は前記基板との界面に前記Cuに添加した添加元素の酸化物層を形成する銅合金を適用したことを特徴とする平面電子表示装置。
IPC (12件):
G09F 9/30
, H01L 29/786
, H01L 21/28
, H01L 21/320
, H01L 23/52
, G02F 1/136
, G02F 1/134
, H01J 11/02
, H01J 31/12
, H01J 29/04
, H01L 51/50
, H05B 33/06
FI (12件):
G09F9/30 338
, H01L29/78 617M
, H01L21/28 301R
, H01L21/88 M
, G02F1/1368
, G02F1/1343
, G02F1/1345
, H01J11/02 B
, H01J31/12 C
, H01J29/04
, H05B33/14 A
, H05B33/06
Fターム (134件):
2H092HA19
, 2H092JA25
, 2H092JA26
, 2H092JA36
, 2H092JB61
, 2H092KA04
, 2H092KA05
, 2H092KA12
, 2H092KB04
, 2H092MA04
, 2H092MA05
, 2H092MA07
, 2H092MA08
, 2H092MA11
, 2H092MA17
, 2H092MA23
, 2H092MA25
, 2H092MA27
, 2H092MA30
, 2H092MA41
, 2H092NA18
, 2H092NA28
, 3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC14
, 3K107CC22
, 3K107DD38
, 3K107DD39
, 3K107DD44Z
, 3K107EE03
, 3K107FF04
, 3K107FF14
, 4M104AA09
, 4M104BB04
, 4M104CC05
, 4M104DD78
, 4M104DD79
, 4M104DD86
, 4M104EE02
, 4M104EE05
, 4M104EE09
, 4M104EE16
, 4M104GG09
, 4M104GG10
, 4M104GG14
, 4M104HH08
, 4M104HH09
, 4M104HH20
, 5C031DD17
, 5C036EE14
, 5C036EE19
, 5C036EF01
, 5C036EF06
, 5C036EG12
, 5C036EG34
, 5C036EG50
, 5C036EH08
, 5C040FA01
, 5C040GB03
, 5C040GB14
, 5C040GC05
, 5C040GC18
, 5C040GC19
, 5C040GJ02
, 5C040JA07
, 5C040JA14
, 5C040JA15
, 5C040KA01
, 5C040KB02
, 5C040KB03
, 5C040KB24
, 5C040KB28
, 5C040LA05
, 5C040MA23
, 5C040MA26
, 5C040MA30
, 5C094AA21
, 5C094AA31
, 5C094AA43
, 5C094BA03
, 5C094BA27
, 5C094BA31
, 5C094BA32
, 5C094BA43
, 5C094CA19
, 5C094DA14
, 5C094EA10
, 5C094EB10
, 5C094FB12
, 5C094JA01
, 5C094JA20
, 5F033GG04
, 5F033HH11
, 5F033MM15
, 5F033PP15
, 5F033PP19
, 5F033PP27
, 5F033PP28
, 5F033QQ73
, 5F033QQ76
, 5F033RR03
, 5F033VV06
, 5F033VV15
, 5F033XX13
, 5F033XX14
, 5F033XX20
, 5F110AA30
, 5F110BB01
, 5F110CC02
, 5F110CC05
, 5F110CC07
, 5F110DD02
, 5F110EE06
, 5F110EE33
, 5F110EE42
, 5F110EE43
, 5F110EE44
, 5F110EE48
, 5F110FF01
, 5F110FF02
, 5F110FF03
, 5F110FF10
, 5F110FF22
, 5F110FF28
, 5F110FF29
, 5F110GG02
, 5F110GG13
, 5F110GG15
, 5F110GG45
, 5F110HJ12
, 5F110NN71
, 5F110NN72
, 5F110NN73
, 5F110QQ11
引用特許:
出願人引用 (11件)
全件表示
審査官引用 (5件)
-
液晶表示装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-313642
出願人:株式会社東芝
-
半導体装置及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-365425
出願人:株式会社リコー
-
薄膜配線
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-099967
出願人:日立金属株式会社
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引用文献:
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