特許
J-GLOBAL ID：200903039517647585

レジスト組成物の製造方法、ろ過装置、レジスト組成物の塗布装置およびレジスト組成物

発明者：
室井 雅昭

室井 雅昭 について

, 
尾崎 弘和

尾崎 弘和 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-208543
公開番号（公開出願番号）：特開2007-025341
出願日： 2005年07月19日
公開日（公表日）： 2007年02月01日
要約：
【課題】 ディフェクトの発生が抑制されたレジスト組成物が得られるレジスト組成物の製造方法、該製造方法に好適に使用できるろ過装置、該ろ過装置を搭載したレジスト組成物の塗布装置、およびディフェクトの発生が抑制されたレジスト組成物の提供。【解決手段】 酸の作用によりアルカリ可溶性が変化する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を有機溶剤(S)に溶解してなるレジスト組成物を、ポリエチレン製の中空糸膜を備えたフィルタ(f1)を通過させる。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ可溶性が変化する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を有機溶剤(S)に溶解してなるレジスト組成物を、ポリエチレン製の中空糸膜を備えたフィルタ(f1)を通過させる工程(I)を有することを特徴とするレジスト組成物の製造方法。
IPC (9件)：
G03F 7/16 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  B01D 61/14 ,  B01D 61/58 ,  B01D 69/08 ,  B01D 71/26 ,  B01D 71/32 ,  B01D 71/56
FI (9件)：
G03F7/16 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 564C ,  B01D61/14 500 ,  B01D61/58 ,  B01D69/08 ,  B01D71/26 ,  B01D71/32 ,  B01D71/56
Fターム (31件)：
2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ01 ,  2H025BJ10 ,  2H025EA01 ,  2H025EA04 ,  4D006GA07 ,  4D006HA01 ,  4D006HA41 ,  4D006HA91 ,  4D006HA95 ,  4D006KA52 ,  4D006KA53 ,  4D006KA55 ,  4D006KA57 ,  4D006KA64 ,  4D006MA01 ,  4D006MA03 ,  4D006MC22 ,  4D006MC23 ,  4D006MC28 ,  4D006PA01 ,  4D006PB13 ,  4D006PC01 ,  5F046JA01
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (13件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)
  • 半導体産業新聞, 19971105, 第10面

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