特許
J-GLOBAL ID：200903059522404470

基板処理装置

発明者：
宮城 聡

宮城 聡 について

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金岡 雅

金岡 雅 について

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濱田 哲也

濱田 哲也 について

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茂森 和士

茂森 和士 について

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安田 周一

安田 周一 について


出願人/特許権者：
株式会社SOKUDO

株式会社SOKUDO について


代理人 (1件)： 福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-235085
公開番号（公開出願番号）：特開2008-060302
出願日： 2006年08月31日
公開日（公表日）： 2008年03月13日
要約：
【課題】高い精度で正確に基板周縁部の膜を除去することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置500は、反射防止膜用処理ブロック10、レジスト膜用処理ブロック11、レジストカバー膜用処理ブロック13を備える。各処理ブロック10,11,13では、基板W上に反射防止膜、レジスト膜およびレジストカバー膜が形成される。また、基板Wの周縁部に形成された膜が除去される。基板周縁部に形成された膜の除去は、回転する基板Wの周縁部に、その膜を溶解して除去することができる除去液を供給することにより行われる。膜の周縁部を除去する際には、基板Wの中心が回転軸の中心と一致するように基板Wの位置が補正される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
露光装置に隣接するように配置される基板処理装置であって、 基板に処理を行う処理部と、 前記処理部の一端部に隣接するように設けられ、前記処理部と前記露光装置との間で基板の受け渡しを行うための受け渡し部とを備え、 前記処理部は、前記露光装置による露光処理前の基板の表面に膜を形成する膜形成ユニットを含み、 前記膜形成ユニットは、 基板を略水平に保持する基板保持手段と、 前記基板保持手段により保持された基板をその基板に垂直な軸の周りで回転させる回転駆動手段と、 前記回転駆動手段により回転される基板に塗布液を供給することにより膜を形成する膜形成手段と、 前記回転駆動手段により回転される基板に形成された膜の周縁部の環状領域を除去する除去手段と、 前記除去手段による膜の周縁部の除去位置を補正する位置補正手段とを備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  H01L 21/677 ,  B65G 49/06
FI (4件)：
H01L21/30 577 ,  H01L21/30 564C ,  H01L21/68 A ,  B65G49/06 A
Fターム (23件)：
5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA15 ,  5F031GA12 ,  5F031GA43 ,  5F031JA05 ,  5F031JA29 ,  5F031KA05 ,  5F031KA11 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031PA02 ,  5F031PA25 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046DA29 ,  5F046DB04 ,  5F046JA13 ,  5F046JA15 ,  5F046JA22
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-129817   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 国際公開第99/49504号パンフレット
  • 回転塗布装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-140807   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
審査官引用 (18件)
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