特許
J-GLOBAL ID：200903060661161270

触媒支援型化学加工方法及び加工装置

発明者：
山内 和人

山内 和人 について

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佐野 泰久

佐野 泰久 について

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村田 順二

村田 順二 について

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原 英之

原 英之 について

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八木 圭太

八木 圭太 について


出願人/特許権者：
国立大学法人大阪大学

国立大学法人大阪大学 について

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株式会社荏原製作所

株式会社荏原製作所 について


代理人 (3件)： 柳野 隆生 ,  森岡 則夫 ,  関口 久由
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-328515
公開番号（公開出願番号）：特開2008-136983
出願日： 2006年12月05日
公開日（公表日）： 2008年06月19日
要約：
【課題】難加工物、特に近年電子デバイスの材料として重要性が高まっているSiCやGaN等を、加工効率が高く且つ数10μm以上の空間波長領域にわたって精度が高く加工することが可能な触媒支援型化学加工方法及び加工装置を提供する。【解決手段】酸化剤を含む処理液中に被加工物10を配し、該酸化剤を分解する固体触媒11を被加工物に接触、若しくは極接近させ、触媒上で生成した強力な酸化力を持つ活性種と被加工物の表面原子との化学反応で生成した化合物を除去、あるいは溶出させることによって被加工物を加工する加工原理を用いる。そして、加工中に、被加工物に光を照射する光照射手段、被加工物と固体触媒の間に電圧を印加する電圧印加手段、触媒の温度、被加工物、及び/又は処理液の温度を制御する温度制御手段のうちの1種又は2種以上を組み合わせて適用し、被加工面を加工する。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
酸化剤を含む処理液中に被加工物を配し、該酸化剤を分解する固体触媒を被加工物の被加工面に接触、若しくは極接近させ、前記触媒上で生成した強力な酸化力を持つ活性種と被加工物の表面原子との化学反応で生成した化合物を除去、あるいは溶出させることによって被加工物を加工する触媒支援型化学加工方法において、前記加工中に、被加工物の被加工面に光を照射する光照射手段、被加工物の被加工面と固体触媒の間に電圧を印加する電圧印加手段、触媒の温度、前記被加工物、及び/又は処理液の温度を制御する温度制御手段のうちの1種又は2種以上を組み合わせて適用し、被加工面を加工することを特徴とする触媒支援型化学加工方法。
IPC (4件)：
B01J 19/12 ,  B01J 37/34 ,  B01J 35/02 ,  B01J 19/08
FI (4件)：
B01J19/12 C ,  B01J37/34 ,  B01J35/02 J ,  B01J19/08 A
Fターム (32件)：
4G075AA30 ,  4G075AA63 ,  4G075BA04 ,  4G075BA05 ,  4G075BA06 ,  4G075CA02 ,  4G075CA13 ,  4G075CA32 ,  4G075CA51 ,  4G075CA54 ,  4G075DA01 ,  4G075EB01 ,  4G075EB31 ,  4G075ED01 ,  4G169AA15 ,  4G169AA20 ,  4G169BA13A ,  4G169BA47A ,  4G169BA48A ,  4G169BB04A ,  4G169BC31A ,  4G169BC33A ,  4G169BC50A ,  4G169BC58A ,  4G169BC66A ,  4G169BC67A ,  4G169BC68A ,  4G169BC75A ,  4G169HA01 ,  4G169HB01 ,  4G169HB06 ,  4G169HF05
引用特許：
出願人引用 (8件)
  • 特公平2-25745号公報
  • 特公平7-16870号公報
  • 特公平6-44989号公報
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審査官引用 (16件)
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