特許
J-GLOBAL ID：200903065683457531
フォトリソグラフィーの露光方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-078396
公開番号（公開出願番号）：特開2003-282395
出願日： 2002年03月20日
公開日（公表日）： 2003年10月03日
要約：
【要約】【課題】 従来方法でのベストフォーカス値は、テスト露光を行い求めていた。この場合、経時変化でフォーカス値がロット処理時に変化してしまう。【解決手段】 所望のパターン寸法形成のためのベストフォーカス値算出方法は、過去露光で形成したパターンである、フォーカスが変動してもほとんど寸法変動しない第1のパターンとフォーカスが変動すると寸法も変動する第2のパターンを用い、第1のパターンと第2のパターンの寸法差でこれから露光し、パターン形成する時のフォーカスが前記ベストフォーカスから変動する度合いを算出する工程と、ベストフォーカスに対するずれがわかる第3のパターンを用いて、プラスフォーカスあるいはマイナスフォーカスに変動したかを判定する工程とを備えている。
請求項（抜粋）：
ガラス基板上の被露光パターンを、感光剤を塗布した薄膜基板上に投影光学露光系を用いて露光するパターン形成において、過去露光でパターンを形成した時の重ね合せ補正値と重ね合せ精度測定値から第一の重ね合せ補正値を算出する工程と、前記過去露光で使用したマスクの位置誤差値とこれから露光に使用するマスクの位置誤差値からマスク成分に起因する第二の重ね合せ補正値を算出する工程と、第一および第二の重ね合せ補正値からこれから処理するロットの新たな第三の重ね合せ補正値を算出する工程を含むことを特徴とするフォトリソグラフィーの露光方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/207
, G03F 9/00
G03F 7/207 H
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 514 E
, H01L 21/30 526 A
, H01L 21/30 525 W
, H01L 21/30 516 D
5F046AA28
, 5F046DA02
, 5F046DA14
, 5F046EA03
, 5F046EA12
, 5F046EA13
, 5F046EC05
, 5F046FC04
, 5F046FC10
