感光性樹脂組成物

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：須山佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-290998
公開番号（公開出願番号）：特開2005-062374
出願日： 2003年08月11日
公開日（公表日）： 2005年03月10日
要約：

【課題】紫外線等の活性光線にて露光が可能な、半導体素子表面に成膜され、絶縁保護膜となるポジ感光性樹脂組成物と、この樹脂組成物のポジ型パターン形成方法を提供する。【解決手段】 (A)次の一般式で示されるメチロール基を有するフェノール樹脂(但し、式中、Xは水素原子または-CH2 OHで、mは1〜2の整数であり、Rは芳香族環が-CH2 -、-CH2 -O-CH2 -若しくは-O-を介在して結合する有機基で、nは1以上の整数である)を必須成分とすることを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)次の一般式で示されるメチロール基を有するフェノール樹脂

IPC (2件)：

G03F7/023 , H01L21/027

FI (2件)：

G03F7/023 511 , H01L21/30 502R

Fターム (12件)：

2H025AA04 , 2H025AA06 , 2H025AA10 , 2H025AB16 , 2H025AC01 , 2H025AD03 , 2H025BE01 , 2H025CB29 , 2H025CB41 , 2H025CC03 , 2H025CC17 , 2H025FA29

引用特許：

審査官引用 (24件)

ポジ型フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-271780 出願人：ヤスハラケミカル株式会社
感光性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-265500 出願人：三菱化学株式会社
フオトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-215587 出願人：三菱化成株式会社

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引用文献：

審査官引用 (1件)

高分子機能材料シリーズ全9巻第2巻高分子の合成と反応(2), 19910925, 372乃至381頁

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