特許
J-GLOBAL ID：200903089108820213
感放射線性レジスト組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永井 隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-329927
公開番号（公開出願番号）：特開2008-145539
出願日： 2006年12月06日
公開日（公表日）： 2008年06月26日
要約：
【課題】i線、g線等の紫外線のみならず、可視光線、KrF等のエキシマレーザー光、電子線、極端紫外線(EUV)、X線、イオンビーム等の放射線にも感応する感放射線性レジスト組成物を提供する。【解決手段】(a)炭素数7〜38で三〜四価の芳香族アルデヒドと、炭素数6〜15であり1〜3個のフェノール性水酸基を有する化合物との縮合反応により製造されたポリフェノール化合物であり、かつ(b)分子量が800〜5000であるレジスト化合物(A)、可視光線、紫外線、エキシマレーザー、電子線、極端紫外線(EUV)、X線、およびイオンビームからなる群から選ばれるいずれかの放射線の照射により直接的又は間接的に酸を発生する酸発生剤(B)、及び、酸架橋剤(C)を含むことを特徴とする感放射線性レジスト組成物とする。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(a)炭素数7〜38で三〜四価の芳香族アルデヒドと、炭素数6〜15であり1〜3個のフェノール性水酸基を有する化合物との縮合反応により製造されたポリフェノール化合物であり、かつ
(b)分子量が800〜5000である
レジスト化合物(A)、可視光線、紫外線、エキシマレーザー、電子線、極端紫外線(EUV)、X線、およびイオンビームからなる群から選ばれるいずれかの放射線の照射により直接的又は間接的に酸を発生する酸発生剤(B)、及び、酸架橋剤(C)を含むことを特徴とする感放射線性レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/038
, G03F 7/004
, H01L 21/027
G03F7/038 601
, G03F7/004 503A
, G03F7/004 501
, H01L21/30 502R
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA10
, 2H025AB16
, 2H025AC01
, 2H025AC04
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AC07
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025BE00
, 2H025CC17
, 2H025CC20
, 2H025FA12
, 2H025FA17
