特許
J-GLOBAL ID:201103010830827330

オニウム化合物を含有する溶液から水酸化オニウムを回収するプロセス

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 秀策
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-540083
特許番号:特許第4430818号
出願日: 1999年01月14日
請求項(抜粋):
【請求項1】 オニウム化合物を含有する溶液から水酸化オニウムを回収するプロセスであって、該プロセスは、以下を包含する: (A)該オニウム化合物に由来のオニウムカチオンの少なくとも一部がカチオン交換材料により吸着されるように、該溶液を該カチオン交換材料と接触させる工程; (B)酸を該カチオン交換材料と接触させて、オニウム塩を溶離する工程; (C)該オニウム塩を電気化学セル(70,90)に充填し、 (C-7)該セル(70)に電流を通し、それにより、該水酸化オニウムを再生させる工程であって、該電気化学セルが、少なくとも5個の隔室、アノード(71)、カソード(72)、および該アノード(71)から該カソード(72)の順に、第一双極膜(73)、アニオン選択性膜(74)、カチオン選択性膜(75)、および第二双極膜(76)を備える工程;または (C-8)該セル(90)に電流を通し、それにより、該水酸化オニウムを再生させる工程であって、該電気化学セルが、少なくとも9個の隔室、アノード(91)、カソード(92)、および該アノード(91)から該カソード(92)の順に、第一カチオン選択性膜(93)、第一双極膜(94)、第一アニオン選択性膜(95)、第二カチオン選択性膜(96)、第二双極膜(97)、第二アニオン選択性膜(98)、第三カチオン選択性膜(99)、および第四カチオン選択性膜(100)を備える工程;および (D)該セルから該水酸化オニウムを回収する工程。
IPC (2件):
C02F 1/469 ( 200 6.01) ,  C02F 1/461 ( 200 6.01)
FI (2件):
C02F 1/46 103 ,  C02F 1/46 101 Z
引用特許:
出願人引用 (14件)
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審査官引用 (4件)
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