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J-GLOBAL ID:200903040915081468
光学システム、特にマイクロリソグラフィ-に用いられる投影照明ユニット
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
村田 幹雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999348922
Publication number (International publication number):2000195788
Application date: Dec. 08, 1999
Publication date: Jul. 14, 2000
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 特にスロット状の視野或いは非回転対称照明を伴う光学システム、特にマイクロリソグラフィーに用いられる投影照明ユニットを提供する。【解決手段】取り付け台7又は内側リングに配置されている光学エレメント1、特にレンズ又はミラーと、アクチュエータ8a、8b及び9a、9bとを有する。複数のアクチュエータ8a、8b及び9a、9bは、張力及び/又は圧縮力を発生させるために半径方向力-変位伝動装置を介して変形可能な内側リングに作用する。
Claim (excerpt):
特にスロット状の視野或いは非回転対称照明を伴う光学システム、特にマイクロリソグラフィーに用いられる投影照明ユニットであって、該システムは、取り付け台又は内側リングに配置されている光学エレメント、特にレンズ又はミラーと、該光学エレメント及び/又は該内側リングに作用するアクチュエータとを有し、張力及び/又は圧縮力を発生させるために複数のアクチュエータ(8a、8b及び9a、9b)が半径方向力-変位・伝動装置を介して変形可能な内側リング(2)に作用することを特徴とする光学システム。
IPC (2):
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
FI (2):
H01L 21/30 515 D
, G03F 7/20 521
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (23)
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光学装置および露光装置やデバイス生産方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-204168
Applicant:キヤノン株式会社
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特開平4-313702
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温度補償光学アセンブリ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-067213
Applicant:イーストマン・コダツク・カンパニー
-
露光方法及び露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-318163
Applicant:株式会社日立製作所
-
露光装置及び露光方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-017850
Applicant:三菱電機株式会社
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光学装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-104402
Applicant:株式会社東芝
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投影露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-252387
Applicant:株式会社ニコン
-
投影露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-323721
Applicant:株式会社ニコン
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投影露光装置及びデバイスの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-090302
Applicant:キヤノン株式会社
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リソグラフィ用の照明装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-130363
Applicant:エスヴィージーリトグラフィーシステムズインコーポレイテッド
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X線投影露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-312277
Applicant:株式会社ニコン
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投影光学系
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-193744
Applicant:株式会社ニコン
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投影光学装置及びそれを装着した投影露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-225872
Applicant:株式会社ニコン
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回折光学装置及びこれを用いた露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-303901
Applicant:キヤノン株式会社
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レンズ移動装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-019601
Applicant:キヤノン株式会社
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光学要素移動装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-213875
Applicant:キヤノン株式会社
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特開昭53-011043
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特開昭56-008101
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特開昭60-120522
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特開昭62-035619
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特開昭62-291920
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単一フォールド光学システムにおけるビームスプリッタならびに光学可変倍率方法およびシステム
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平8-514676
Applicant:ウルトラテックステッパー,インコーポレイテッド
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光学系、特にマイクロリソグラフィの投影露光装置
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2000-556280
Applicant:カール・ツアイス・スティフツング・トレーディング・アズ・カール・ツアイス
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