Pat
J-GLOBAL ID:200903090031125116
窒化物半導体を用いた発光ダイオード
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
高島 一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005295383
Publication number (International publication number):2006135311
Application date: Oct. 07, 2005
Publication date: May. 25, 2006
Summary:
【課題】活性層で生じた光をより多く素子外に取り出すことができる構成を付与することによって、発光効率の優れた窒化物LEDを提供すること。【解決手段】基板101上に窒化物半導体層からなる積層体が形成された素子構造を有する発光ダイオードである。該積層体101には、基板側から、第1のn型窒化物半導体層102と、窒化物半導体からなる活性層103と、p型窒化物半導体層104と、第2のn型窒化物半導体層105とがこの順に含まれている。前記積層体の最上層の上面は一部または全部が凹凸面Sとされており、かつ、前記第2のn型窒化物半導体層105には、前記p型窒化物半導体層104へ正孔を注入するためのp側電極P102が形成されている。【選択図】図10
Claim (excerpt):
基板上に窒化物半導体層からなる積層体が形成され、該積層体には、基板側から、第1のn型窒化物半導体層と、窒化物半導体からなる活性層と、p型窒化物半導体層と、第2のn型窒化物半導体層とがこの順に含まれており、
上記積層体の最上層の上面は一部または全部が凹凸面とされており、かつ、上記第2のn型窒化物半導体層には、上記p型窒化物半導体層へ正孔を注入するためのp側電極が形成されていることを特徴とする、発光ダイオード。
IPC (1):
FI (2):
H01L33/00 E
, H01L33/00 C
F-Term (10):
5F041AA03
, 5F041CA04
, 5F041CA05
, 5F041CA12
, 5F041CA40
, 5F041CA46
, 5F041CA65
, 5F041CA83
, 5F041CA93
, 5F041CA99
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
-
窒化ガリウム系化合物半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-097154
Applicant:スタンレー電気株式会社
-
半導体発光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-135220
Applicant:旭化成工業株式会社
-
精細パタ-ンが形成された反射接触部を備える発光素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-231279
Applicant:ヒューレット・パッカード・カンパニー
-
半導体装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-343422
Applicant:酒井士郎, ナイトライド・セミコンダクター株式会社
-
半導体装置およびその作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-122716
Applicant:株式会社リコー
-
トンネル接合を含む発光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-337723
Applicant:ルミレッズライティングユーエスリミテッドライアビリティカンパニー
Show all
Cited by examiner (11)
-
半導体装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-343422
Applicant:酒井士郎, ナイトライド・セミコンダクター株式会社
-
窒化物系半導体発光素子およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-120576
Applicant:シャープ株式会社
-
発光ダイオ-ド及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-373153
Applicant:信越半導体株式会社
-
発光ダイオード及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-315376
Applicant:豊田合成株式会社
-
半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-193785
Applicant:株式会社東芝
-
半導体発光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-013535
Applicant:シャープ株式会社
-
GaN系量子ドット構造の製造方法およびその用途
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-155841
Applicant:三菱電線工業株式会社, 理化学研究所, 田中悟
-
窒化ガリウム系半導体発光素子および発光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-009862
Applicant:株式会社東芝
-
III族窒化物系化合物半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-360159
Applicant:豊田合成株式会社, 大同特殊鋼株式会社
-
発光素子の製造方法及び発光装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-312232
Applicant:ソニー株式会社
-
結晶成長方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-217911
Applicant:ソニー株式会社
Show all
Return to Previous Page