耐プラズマエロージョン性に優れる溶射皮膜被覆部材およびその製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：小川順三 , 中村盛夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-345918
公開番号（公開出願番号）：特開2007-138302
出願日： 2006年12月22日
公開日（公表日）： 2007年06月07日
要約：

【課題】ハロゲン化合物を含む環境などの腐食作用による損傷が少なく、かつ、その腐食生成物が環境汚染原因となって、半導体加工装置の品質低下、生産コストの増大を招くことのない各種半導体装置用溶射皮膜被覆部材を得る。【解決手段】基材の表面に形成したAl2O3、Y2O3またはAl2O3-Y2O3複酸化物などからなる溶射皮膜の表面を、電子ビーム照射処理によって、パーティクル等の付着、堆積特性に優れ、その再飛散を有効に防止できる耐プラズマエロージョン性に優れた部材とその製造方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基材と、その基材表面を覆うセラミック溶射皮膜とからなり、そのセラミック溶射皮膜は、最表層部が高さ方向の粗さ曲線のスキューネス値(Rsk)が負の値を示す表面形状を有する電子ビーム照射層であることを特徴とする耐プラズマエロージョン性に優れる溶射皮膜被覆部材。

IPC (4件)：

C23C 4/10 , C04B 41/87 , C04B 41/90 , C23C 4/18

FI (4件)：

C23C4/10 , C04B41/87 K , C04B41/90 B , C23C4/18

Fターム (13件)：

4K031AA01 , 4K031AA08 , 4K031AB03 , 4K031CB21 , 4K031CB31 , 4K031CB33 , 4K031CB37 , 4K031CB39 , 4K031CB42 , 4K031CB43 , 4K031DA01 , 4K031DA04 , 4K031FA02

引用特許：

出願人引用 (25件)

特開昭50-75370号公報
処理容器用部材
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-371941 出願人：太平洋セメント株式会社, 株式会社日本セラテック
真空処理装置および真空処理方法、並びに該方法によって作成される電子写真感光体
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-082569 出願人：キヤノン株式会社

全件表示

審査官引用 (10件)

プラズマ溶射法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-032082 出願人：三井造船株式会社
金属部材の表面仕上方法及びそれにより得られる金属部材
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-044107 出願人：アイシン・エィ・ダブリュ株式会社
耐食性部材およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-167238 出願人：株式会社日本セラテック, 太平洋セメント株式会社

全件表示

引用文献：

出願人引用 (1件)

JIS使い方シリーズ溶射技術マニュアル, 19981030, 第1版第1刷, p.33

審査官引用 (1件)

JIS使い方シリーズ溶射技術マニュアル, 19981030, 第1版第1刷, p.33

前のページに戻る