特許
J-GLOBAL ID：200903057875984621
大気圧プラズマ処理方法及び装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石原 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-004296
公開番号（公開出願番号）：特開2007-188690
出願日： 2006年01月12日
公開日（公表日）： 2007年07月26日
要約：
【課題】大気圧プラズマにて被処理物を間欠的に処理する場合にもガスの使用量を必要最小限に抑制しながら安定して処理を行えるようにする。【解決手段】所定の空間にガスを供給し、前記所定の空間に高周波電圧を印加して大気圧近傍でプラズマを発生させ、プラズマにて被処理物を処理する大気圧プラズマ処理方法において、処理開始認識手段5からの信号にて処理開始を決定し、ガスの流量を増加させるとともにプラズマを点火して被処理物2をプラズマ処理し、処理終了認識手段6からの信号にて被処理物2に対する処理終了を決定し、ガスの流量を減少させるとともにプラズマ11を消灯しかつ微量のガスを流し続けて前記所定の空間内の雰囲気を保持するようにした。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
所定の空間にガスを供給し、前記所定の空間に高周波電圧を印加して大気圧近傍でプラズマを発生させ、プラズマにて被処理物を処理する大気圧プラズマ処理方法において、被処理物に対する処理開始決定によりガスの流量を増加させるとともにプラズマを点火して被処理物をプラズマ処理し、被処理物に対する処理終了決定によりガスの流量を減少させるとともにプラズマを消灯しかつガスを流し続けることを特徴とする大気圧プラズマ処理方法。
IPC (8件)：
H05H 1/24
, C23C 16/505
, C23C 16/455
, C23C 16/52
, C23C 16/515
, H01L 21/306
, B01J 19/08
, H05H 1/00
H05H1/24
, C23C16/505
, C23C16/455
, C23C16/52
, C23C16/515
, H01L21/302 101E
, B01J19/08 E
, H05H1/00 A
4G075AA30
, 4G075AA61
, 4G075AA62
, 4G075AA65
, 4G075BC01
, 4G075BC06
, 4G075BD14
, 4G075CA47
, 4G075CA62
, 4G075DA02
, 4G075DA04
, 4G075DA08
, 4G075DA11
, 4G075EA02
, 4G075EB41
, 4G075EC21
, 4G075EC25
, 4G075ED11
, 4K030EA01
, 4K030EA03
, 4K030EA04
, 4K030FA01
, 4K030JA05
, 4K030JA09
, 4K030KA39
, 4K030KA41
, 5F004BB11
, 5F004CA02
, 5F004CA03
, 5F004CA07
, 5F004DA22
, 5F004DA23
, 5F004DA25
出願人引用 (15件)
全件表示
審査官引用 (12件)
全件表示
前のページに戻る
