特許
J-GLOBAL ID：200903065031125677

感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品

発明者：
岩下 健一

岩下 健一 について

, 
服部 孝司

服部 孝司 について


出願人/特許権者：
日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社

日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-152574
公開番号（公開出願番号）：特開2006-349700
出願日： 2005年05月25日
公開日（公表日）： 2006年12月28日
要約：
【課題】感度、解像度、接着性に優れ、さらに280°C以下で行なわれる低温硬化プロセスで用いても耐熱性に優れ、吸水率の低い、良好な形状のパターンが得られる感光性樹脂組成物、パターンの製造方法、電子部品を提供する。【解決手段】(a)一般式(I)で示される繰り返し単位を有するポリベンゾオキサゾール前駆体、(b)感光剤、及び(c)溶剤を含有してなる感光性樹脂組成物。[一般式(I)中、U又はVは2価の有機基を示し、特定の構造を含む]【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(a)一般式(I)で示される繰り返し単位を有するポリベンゾオキサゾール前駆体、(b)感光剤、及び(c)溶剤を含有してなる感光性樹脂組成物。
IPC (7件)：
G03F 7/037 ,  C08G 73/22 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/029 ,  G03F 7/075 ,  G03F 7/40 ,  H01L 21/027
FI (7件)：
G03F7/037 ,  C08G73/22 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/029 ,  G03F7/075 521 ,  G03F7/40 501 ,  H01L21/30 502R
Fターム (67件)：
2H025AA02 ,  2H025AA10 ,  2H025AA20 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025BC68 ,  2H025BE00 ,  2H025CB26 ,  2H025CB33 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H096AA25 ,  2H096BA05 ,  2H096BA06 ,  2H096BA09 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  4J043PA02 ,  4J043PA19 ,  4J043PC065 ,  4J043QB15 ,  4J043QB21 ,  4J043QB23 ,  4J043QB33 ,  4J043RA05 ,  4J043RA52 ,  4J043SA06 ,  4J043SA71 ,  4J043SB01 ,  4J043TA12 ,  4J043TA26 ,  4J043TB01 ,  4J043UA022 ,  4J043UA041 ,  4J043UA042 ,  4J043UA052 ,  4J043UA081 ,  4J043UA082 ,  4J043UA122 ,  4J043UA131 ,  4J043UA132 ,  4J043UB011 ,  4J043UB021 ,  4J043UB061 ,  4J043UB062 ,  4J043UB122 ,  4J043UB131 ,  4J043UB132 ,  4J043UB152 ,  4J043UB282 ,  4J043UB301 ,  4J043UB302 ,  4J043UB351 ,  4J043UB352 ,  4J043VA021 ,  4J043VA022 ,  4J043VA061 ,  4J043XA16 ,  4J043ZB22
引用特許：
出願人引用 (30件)
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審査官引用 (7件)
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