特許
J-GLOBAL ID：200903095478064388

基板処理方法及び基板処理装置

発明者：
錦戸 修一

錦戸 修一 について

, 
佐藤 紀勝

佐藤 紀勝 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (2件)： 井上 俊夫 ,  水野 洋美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-162039
公開番号（公開出願番号）：特開2005-347326
出願日： 2004年05月31日
公開日（公表日）： 2005年12月15日
要約：
【課題】 基板に対して液処理を行った後、基板を非回転で洗浄するにあたり、短時間で基板を洗浄することのできる基板処理装置及びその方法を提供すること。また高い洗浄効率を得るための条件出しを容易に行うこと。【解決手段】 処理液により処理した後の基板に対し、この基板の有効領域の幅と同じか又はこの幅以上に亘って形成された吐出口を有するリンスノズル4A〜4Cをなす第1の洗浄液ノズル、第2の洗浄液ノズルから各々洗浄液であるリンス液を吐出すると共に、先ず第1の洗浄液ノズルを基板の一端から他端に亘って移動させ、この第1の洗浄液ノズルに続いて基板の一端から他端の長さよりも短い間隔をおいて第2の洗浄液ノズルを基板の一端から他端に亘って移動させる構成とする。この場合、第2の洗浄液ノズルの移動開始の適切なタイミングで速やかに行うことができるので、短時間に洗浄を行うことができ、高い洗浄効率を得ることができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板を水平に保持する工程と、 この基板の表面に処理液を供給して所定の処理を行う工程と、 この所定の処理の後、基板の有効領域の幅と同じか又はこの幅以上に亘って形成された第1の洗浄液ノズルの吐出口から洗浄液を吐出すると共に当該第1の洗浄液ノズルを基板の一端から他端に亘って移動させる工程と、 次いで、基板の有効領域の幅と同じか又はこの幅以上に亘って形成された第2の洗浄液ノズルの吐出口から洗浄液を吐出すると共に、前記第1の洗浄液ノズルに続いて基板の一端から他端の長さよりも短い間隔をおいて当該第2の洗浄液ノズルを基板の一端から他端に亘って移動させる工程と、を含むことを特徴とする基板処理方法。
IPC (4件)：
H01L21/027 ,  B05C11/08 ,  B05D3/10 ,  H01L21/304
FI (5件)：
H01L21/30 569A ,  B05C11/08 ,  B05D3/10 F ,  H01L21/304 643C ,  H01L21/304 648H
Fターム (20件)：
4D075AC09 ,  4D075AC78 ,  4D075AC84 ,  4D075AC88 ,  4D075AC94 ,  4D075AC96 ,  4D075BB65Z ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DC22 ,  4D075EA06 ,  4F042AA07 ,  4F042AB00 ,  4F042EB09 ,  4F042EB13 ,  4F042EB18 ,  4F042EB28 ,  5F046LA12 ,  5F046LA13 ,  5F046LA14
引用特許：
出願人引用 (14件)
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審査官引用 (12件)
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