レーザーラインパターンニング方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石原勝
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-155102
公開番号（公開出願番号）：特開2000-343254
特許番号：特許第4112745号
出願日： 1999年06月02日
公開日（公表日）： 2000年12月12日
請求項（抜粋）：

【請求項1】複数のレーザーダイオードを直線上に列設してなるLDバーアレイからライン状に出射されるファーストアクシスのレーザー光をラインコリメートレンズによってコリメートし、このコリメートされたレーザー光をライン集光レンズによって集光して所定の集光位置にライン状集光スポットを形成し、ライン状集光スポット及び/又は前記集光位置に配置された被加工物をライン方向に移動させて前記被加工物の表面にライン状のパターンを形成することを特徴とするレーザーラインパターンニング方法。

IPC (3件)：