特許
J-GLOBAL ID：201503005138054670
塗布装置および塗布方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-204179
公開番号（公開出願番号）：特開2015-069882
出願日： 2013年09月30日
公開日（公表日）： 2015年04月13日
要約：
【課題】基板に対して非塗布領域を効率的かつ有効に形成する技術を提供する。【解決手段】塗布装置1は、基板Pを保持するテーブル21と、テーブル21に保持された基板Pの主面に向けて流動性材料を吐出するノズルユニット50と、ノズルユニット50を主走査方向に移動させるノズル移動機構51と、ステージ21を副走査方向に移動させるステージ移動機構26を備えている。また、塗布装置1は、ステージ21に保持された基板Pの主面のうち、非塗布領域に対応する部分に対向するように、磁性を有するマスキングテープ611を配するとともに、マスキングテープ611を基板Pの移動に合わせて移動させるマスク機構6と、磁場を発生させることによって、マスキングテープ611を基板Pに吸着させる磁場発生部9とを備えている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板に対して、流動性材料が塗布されない非塗布領域を形成しつつ、前記流動性材料を塗布する塗布装置であって、
基板を保持する保持部と、
前記保持部に保持された前記基板の主面に向けて流動性材料を吐出する吐出部と、
前記吐出部を、前記保持部に保持された基板に対して相対的に移動させる移動機構と、
前記保持部に保持された前記基板の主面のうち、前記非塗布領域に対応する部分に対向するように、磁性を有するマスク部を配するとともに、該マスク部を前記基板の移動に合わせて移動させるマスク機構と、
磁場を発生させることによって、前記マスク部を前記基板に吸着させる磁場発生部と、
を備える、塗布装置。
IPC (5件)：
H05B 33/10
, B05C 5/00
, H01L 51/50
, B05D 1/32
, B05D 1/26
H05B33/10
, B05C5/00 101
, H05B33/14 A
, H05B33/22 C
, B05D1/32 B
, B05D1/26 Z
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC45
, 3K107DD58
, 3K107DD70
, 3K107DD71
, 3K107DD78
, 3K107DD87
, 3K107GG06
, 3K107GG28
, 3K107GG35
, 3K107GG56
, 4D073AA01
, 4D073BB03
, 4D073DB03
, 4D073DB07
, 4D073DB14
, 4D073DB33
, 4D073DB39
, 4D073DC07
, 4D075AD07
, 4D075DA06
, 4D075DC24
, 4F041AA05
, 4F041AB01
, 4F041BA13
, 4F041BA34
