表面平坦化方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：安彦元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-049628
公開番号（公開出願番号）：特開2016-171189
出願日： 2015年03月12日
公開日（公表日）： 2016年09月23日
要約：

【課題】近接場光を用いた表面平坦化方法であって、塩素系ガスを用いることなく行うことができるものを提供する。【解決手段】近接場光を用いた表面平坦化方法。表面にナノオーダーの凸部22が形成された平坦化対象物2の表面に反応性溶液3を塗布する工程と、反応性溶液3が塗布された平滑化対象物2に対し、凸部22に近接場光を発生しうる波長の光を照射する工程と、を有することを特徴とする。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

近接場光を用いた表面平坦化方法であって、表面にナノオーダーの凸部が形成された平坦化対象物の表面に反応性溶液を塗布する工程と、前記反応性溶液が塗布された前記平滑化対象物に対し、前記凸部に近接場光を発生しうる波長の光を照射する工程と、を有することを特徴とする表面平坦化方法。

IPC (4件)：

H01L 21/306 , H01L 21/308 , H01L 21/304 , H01L 21/027

FI (4件)：

H01L21/306 M , H01L21/308 G , H01L21/304 645Z , H01L21/30 572B

Fターム (17件)：

5F043AA02 , 5F043AA05 , 5F043AA13 , 5F043AA40 , 5F043BB02 , 5F043BB06 , 5F043BB27 , 5F043BB30 , 5F043DD08 , 5F043FF07 , 5F146MA02 , 5F146MA07 , 5F157AB02 , 5F157AB33 , 5F157BG02 , 5F157BG42 , 5F157BG58

引用特許：

審査官引用 (15件)

エッチング方法並びにナノデバイスの作製方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-338337 出願人：独立行政法人科学技術振興機構
透光性基材の表面平坦化方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2012-003731 出願人：特定非営利活動法人ナノフォトニクス工学推進機構
Low-k膜用エッチング液及びエッチング方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-127420 出願人：ダイキン工業株式会社

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