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J-GLOBAL ID:201103075043740036
レーザダイシング方法およびレーザダイシング装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
松山 允之
, 池上 徹真
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2009245573
Publication number (International publication number):2011091322
Application date: Oct. 26, 2009
Publication date: May. 06, 2011
Summary:
【課題】パルスレーザビームの照射パターンを最適化することでクラックの発生を制御し、優れた割断特性を実現するレーザダイシング方法を提供する。【解決手段】被加工基板をステージに載置し、クロック信号を発生し、クロック信号に同期したパルスレーザビームを出射し、被加工基板とパルスレーザビームとを相対的に移動させ、被加工基板へのパルスレーザビームの照射と非照射を、クロック信号に同期してパルスレーザビームの通過と遮断を制御することで、光パルス単位で切り替え、被加工基板に基板表面に達するクラックを形成することを特徴とするレーザダイシング方法。【選択図】図1
Claim (excerpt):
被加工基板をステージに載置し、
クロック信号を発生し、
前記クロック信号に同期したパルスレーザビームを出射し、
前記被加工基板と前記パルスレーザビームとを相対的に移動させ、
前記被加工基板への前記パルスレーザビームの照射と非照射を、前記クロック信号に同期して前記パルスレーザビームの通過と遮断を制御することで、光パルス単位で切り替え、
前記被加工基板に基板表面に達するクラックを形成することを特徴とするレーザダイシング方法。
IPC (6):
H01L 21/301
, B23K 26/00
, B23K 26/08
, B23K 26/38
, B23K 26/40
, B28D 5/00
FI (6):
H01L21/78 B
, B23K26/00 N
, B23K26/08 D
, B23K26/38 320
, B23K26/40
, B28D5/00 Z
F-Term (14):
3C069AA03
, 3C069BA08
, 3C069BB01
, 3C069CA05
, 3C069EA02
, 3C069EA05
, 4E068AE00
, 4E068CA02
, 4E068CA03
, 4E068CA08
, 4E068CA15
, 4E068CE04
, 4E068DA10
, 4E068DB11
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (15)
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レーザ加工装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-130491
Applicant:日本電気株式会社
-
加工対象物切断方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2009-146690
Applicant:浜松ホトニクス株式会社
-
ビーム加工方法及びその装置、並びにタッチパネル基板の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-076827
Applicant:リコーマイクロエレクトロニクス株式会社
-
レーザー加工装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-354558
Applicant:株式会社ディスコ
-
被加工物のエッジ検出装置およびレーザー加工機
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-325742
Applicant:株式会社ディスコ
-
レーザー加工装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-309987
Applicant:株式会社ディスコ
-
チャックテーブルに保持された被加工物の計測装置およびレーザー加工機
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-047395
Applicant:株式会社ディスコ
-
レーザ加工方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2008-026737
Applicant:株式会社ディスコ
-
レーザ加工装置及びレーザ加工工法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-327782
Applicant:松下電器産業株式会社
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レーザ加工方法及びレーザ加工装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-152151
Applicant:アイシン精機株式会社
-
レーザ加工方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2008-076298
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-
半導体発光素子の分離方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-279511
Applicant:アイシン精機株式会社, 豊田合成株式会社
-
サファイア基板の加工方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-181973
Applicant:株式会社ディスコ
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Gazette classification:公表公報
Application number:特願2009-506657
Applicant:モビアスフォトニクス,インク., 日立ビアメカニクス株式会社
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レーザーによる部分加工
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2003-503392
Applicant:エレクトロサイエンティフィックインダストリーズインコーポレーテッド
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