特許
J-GLOBAL ID：200903076130831194

反射防止膜材料、反射防止膜を有する基板及びパターン形成方法

発明者：
荻原 勤

荻原 勤 について

, 
岩淵 元亮

岩淵 元亮 について

, 
浅野 健

浅野 健 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-249373
公開番号（公開出願番号）：特開2007-065161
出願日： 2005年08月30日
公開日（公表日）： 2007年03月15日
要約：
【課題】短波長の露光に対して、優れた反射防止効果を有し、エッチング選択比が高く、さらに、長期の保存においても膜厚変動が少ない反射防止膜材料を提供する。【解決手段】リソグラフィーで用いられる反射防止膜材料であって、少なくとも、炭素-酸素単結合及び/又は炭素-酸素二重結合を有する有機基と、光吸収基と、末端がSi-OH及び/又はSi-ORであるケイ素原子とを含む反射防止用シリコーン樹脂と、少なくとも分子内にエーテル結合、カルボニル結合、エステル結合のいずれかを1種以上含み、および1個以上のヒドロキシ基を有するものである有機溶剤と、酸発生剤とを含有するものであり、かつ、前記少なくとも分子内にエーテル結合、カルボニル結合、エステル結合のいずれかを1種以上含み、および1個以上のヒドロキシ基を有するものである有機溶剤が、全有機溶剤中60質量%以上含まれるものであることを特徴とする反射防止膜材料。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
リソグラフィーで用いられる反射防止膜材料であって、少なくとも、炭素-酸素単結合及び/又は炭素-酸素二重結合を有する有機基と、光吸収基と、末端がSi-OH及び/又はSi-ORであるケイ素原子(Rはアルキル基である)とを含む反射防止用シリコーン樹脂と、少なくとも分子内にエーテル結合、カルボニル結合、エステル結合のいずれかを1種以上含み、および1個以上のヒドロキシ基を有するものである有機溶剤と、酸発生剤とを含有するものであり、かつ、前記少なくとも分子内にエーテル結合、カルボニル結合、エステル結合のいずれかを1種以上含み、および1個以上のヒドロキシ基を有するものである有機溶剤が、全有機溶剤中60質量%以上含まれるものであることを特徴とする反射防止膜材料。
IPC (3件)：
G03F 7/11 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/40
FI (3件)：
G03F7/11 503 ,  H01L21/30 574 ,  G03F7/40 521
Fターム (11件)：
2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025DA34 ,  2H025FA41 ,  2H096AA25 ,  2H096CA06 ,  2H096EA04 ,  2H096HA23 ,  2H096JA04 ,  5F046PA02 ,  5F046PA07
引用特許：
出願人引用 (23件)
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審査官引用 (4件)
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