特許
J-GLOBAL ID：201103007536463850
基板処理装置、基板処理システムおよび検査周辺露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福島 祥人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-213093
公開番号（公開出願番号）：特開2011-066049
出願日： 2009年09月15日
公開日（公表日）： 2011年03月31日
要約：
【課題】液浸法による露光処理時に露光装置に不具合が生じることが防止された基板処理装置、基板処理システムおよび検査周辺露光装置を提供する。【解決手段】エッジ露光部EEWは、投光部510、投光部保持ユニット520、基板回転ユニット540、外周端部検出ユニット550および表面検査処理ユニット580を備える。投光部保持ユニット520の各部の動作により投光部510がX方向およびY方向に移動する。投光部510はライトガイドを介して露光用光源より送られる光を基板Wの周縁部に照射する。外周端部検出ユニット550のCCDラインセンサ553の受光量分布に基づいて、エッジサンプリング処理が行われる。表面検査処理ユニット580のCCDラインセンサ583の受光量分布に基づいて、後述の表面検査処理が行われる。【選択図】図8
請求項（抜粋）：
基板に露光処理を行う露光装置に隣接するように配置される基板処理装置であって、
前記露光装置による露光処理前に、基板上に感光性膜を形成する膜形成ユニットと、
前記露光装置による露光処理後に、基板上の感光性膜に現像処理を行う現像ユニットと、
前記膜形成ユニットによる感光性膜の形成後で前記露光装置による露光処理前に、基板の表面状態の検査および基板上の感光性膜の周縁部の露光処理を行う検査周辺露光ユニットと、
前記膜形成ユニット、前記現像ユニット、前記検査周辺露光ユニットおよび前記露光装置の間で基板を搬送する搬送装置とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (1件)：
FI (2件)：
H01L21/30 565
, H01L21/30 502Z
5F046AA18
, 5F046AA28
, 5F146AA18
, 5F146AA28
