特許
J-GLOBAL ID：201803017479527810

殺菌装置

発明者：
金澤 健司

金澤 健司 について

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若狭 暁

若狭 暁 について

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松川 泰三

松川 泰三 について

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松藤 幸樹

松藤 幸樹 について


出願人/特許権者：
三浦工業株式会社

三浦工業株式会社 について


代理人 (1件)： 小山 方宜
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-109793
公開番号（公開出願番号）：特開2014-226107
特許番号：特許第6283926号
出願日： 2013年05月24日
公開日（公表日）： 2014年12月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 被処理物が収容されると共に設定水位まで水が貯留される処理槽と、 この処理槽内の貯留水を循環路を介して循環させる循環手段と、 前記循環路または前記処理槽内の水を加熱する加熱手段と、 前記処理槽内を設定温度に維持するように前記加熱手段を制御して、前記被処理物を加熱して殺菌する制御手段とを備え、 前記殺菌中、前記処理槽内の貯留水の一部を入れ替えて、前記設定温度を第一設定温度から第二設定温度に下げる工程を含み、 殺菌工程において、前記加熱手段により前記処理槽内の温度を調整して第一設定温度で第一設定時間維持した後、第一設定温度よりも低い第二設定温度にまで温度を下げ、前記加熱手段により前記処理槽内の温度を調整して第二設定温度で第二設定時間維持する動作を実行する殺菌装置であって、 前記処理槽内への給水手段と、前記処理槽外への排水手段とを備え、 前記被処理物を浸漬しない水位まで、前記給水手段により前記処理槽内に水を貯留し、その貯留水を前記循環手段により循環させ、 前記設定温度を目標温度まで下げる際、前記処理槽内の水位が上限水位未満である限り、前記給水手段により前記処理槽内へ間欠的または連続的に給水する一方、前記処理槽内の水位が上限水位を上回ると下限水位を下回るまで、前記排水手段により前記処理槽外へ間欠的にまたは連続的に排水し、 前記設定温度を目標温度まで下げる際、その温度下降速度が設定速度になるように、前記給水手段による前記処理槽内への給水流量と、前記排水手段による前記処理槽外への排水流量とを調整する ことを特徴とする殺菌装置。
IPC (1件)：
A23L 3/12 ( 200 6.01)
FI (1件)：
A23L 3/12
引用特許：
出願人引用 (21件)
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審査官引用 (24件)
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