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J-GLOBAL ID:200903013920928447
半導体発光ダイオードとその製造方法
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (5):
志賀 正武
, 渡邊 隆
, 青山 正和
, 村山 靖彦
, 実広 信哉
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004162374
Publication number (International publication number):2005150675
Application date: May. 31, 2004
Publication date: Jun. 09, 2005
Summary:
【課題】二つの電極がチップの上面と下面に分けて配置された垂直型電極構造を有する発光ダイオードの作製技術及びサファイア基板のエッチング技術を利用した発光ダイオード製造方法の提供を目的とする。【解決手段】ビアホールを有する基礎基板、前記基礎基板の一面上に形成されており、前記基礎基板のビアホールと重なるビアホールは、バッファー層、前記バッファー層上に形成されている第1導電型接触層、前記第1導電型接触層上に形成されている第1クラッド層、前記 第1クラッド層上に形成されている発光層、前記発光層上に形成されている第2クラッド層、第2クラッド層上に形成されている第2導電型接触層、前記第2導電型接触層上に形成されている第1電極、及び前記ビアホールを介して前記第1導電型接触層に連結されている第2電極を含む発光ダイオードを提供する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
ビアホールを有する基礎基板、
前記基礎基板上に形成されている第1導電型接触層、
前記第1導電型接触層上に形成されている活性層、
前記活性層上に形成されている第2導電型接触層、
前記第2導電型接触層上に形成されている第1電極、及び
前記ビアホールを介して前記第1導電型接触層と電気的に連結されている第2電極を含む発光ダイオード。
IPC (1):
FI (2):
H01L33/00 C
, H01L33/00 E
F-Term (8):
5F041AA04
, 5F041CA40
, 5F041CA46
, 5F041CA74
, 5F041CA93
, 5F041CB15
, 5F041DA17
, 5F041DB01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (20)
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半導体装置およびその製造方法
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Application number:特願平10-147492
Applicant:ソニー株式会社
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発光素子
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Application number:特願平11-058024
Applicant:株式会社日立製作所
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半導体発光素子および発光装置
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Application number:特願平9-118025
Applicant:株式会社東芝
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III-V族窒化物系半導体基板およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-084963
Applicant:日本電気株式会社, 日立電線株式会社
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Application number:特願2002-324991
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GaN系のIII-V族窒化物半導体発光素子及びその製造方法
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Application number:特願2001-383523
Applicant:三星電機株式会社
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窒化ガリウム基板の製造方法
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Application number:特願2002-358811
Applicant:ゼロックス・コーポレーション
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放射線を発する半導体デバイス、その製造方法及び放射線を発する光学素子
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Application number:特願2001-560457
Applicant:オスラムオプトセミコンダクターズゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
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Application number:特願2001-383146
Applicant:洲磊科技股ふん有限公司
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Application number:特願2003-011426
Applicant:日亜化学工業株式会社
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Application number:特願2002-148028
Applicant:三星電機株式会社
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Application number:特願2001-252042
Applicant:三菱住友シリコン株式会社
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発光素子および発光素子の製造方法
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Application number:特願2000-153499
Applicant:日亜化学工業株式会社
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半導体の製造方法及び半導体装置の製造方法
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Application number:特願2001-355467
Applicant:松下電器産業株式会社
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窒化ガリウム系化合物半導体発光素子
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Application number:特願平10-006053
Applicant:東芝電子エンジニアリング株式会社, 株式会社東芝
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半導体発光装置
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Application number:特願2001-240084
Applicant:ローム株式会社
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半導体レーザ素子およびその製造方法
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Application number:特願2002-169102
Applicant:シャープ株式会社
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Application number:特願2000-324613
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Application number:特願平9-105846
Applicant:ソニー株式会社
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Application number:特願2000-018271
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