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J-GLOBAL ID:200903013920928447

半導体発光ダイオードとその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5): 志賀 正武 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  村山 靖彦 ,  実広 信哉
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004162374
Publication number (International publication number):2005150675
Application date: May. 31, 2004
Publication date: Jun. 09, 2005
Summary:
【課題】二つの電極がチップの上面と下面に分けて配置された垂直型電極構造を有する発光ダイオードの作製技術及びサファイア基板のエッチング技術を利用した発光ダイオード製造方法の提供を目的とする。【解決手段】ビアホールを有する基礎基板、前記基礎基板の一面上に形成されており、前記基礎基板のビアホールと重なるビアホールは、バッファー層、前記バッファー層上に形成されている第1導電型接触層、前記第1導電型接触層上に形成されている第1クラッド層、前記 第1クラッド層上に形成されている発光層、前記発光層上に形成されている第2クラッド層、第2クラッド層上に形成されている第2導電型接触層、前記第2導電型接触層上に形成されている第1電極、及び前記ビアホールを介して前記第1導電型接触層に連結されている第2電極を含む発光ダイオードを提供する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
ビアホールを有する基礎基板、 前記基礎基板上に形成されている第1導電型接触層、 前記第1導電型接触層上に形成されている活性層、 前記活性層上に形成されている第2導電型接触層、 前記第2導電型接触層上に形成されている第1電極、及び 前記ビアホールを介して前記第1導電型接触層と電気的に連結されている第2電極を含む発光ダイオード。
IPC (1):
H01L33/00
FI (2):
H01L33/00 C ,  H01L33/00 E
F-Term (8):
5F041AA04 ,  5F041CA40 ,  5F041CA46 ,  5F041CA74 ,  5F041CA93 ,  5F041CB15 ,  5F041DA17 ,  5F041DB01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (20)
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