特許
J-GLOBAL ID：200903014355135752
レジスト用化合物および感放射線性組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永井 隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-249954
公開番号（公開出願番号）：特開2005-346024
出願日： 2004年08月30日
公開日（公表日）： 2005年12月15日
要約：
【課題】 KrF等のエキシマレーザー光、極端紫外線(EUV)、電子線、X線等の放射線に感応する化合物及び感放射線性組成物を提供する。金属触媒を使用することなくかつ簡単な製造工程で、高感度、高解像度、高耐熱性、高エッチング耐性かつ溶剤可溶性の非高分子系感放射線性組成物を提供する。 【解決手段】 固形成分1〜80重量%および溶媒20〜99重量%を含む感放射線性組成物であって、特定の条件を満たす化合物(B)を含み、化合物(B)と溶解促進剤の総和が固形成分の全重量を基準として50〜99.999重量%であることを特徴とする感放射線性組成物。 【選択図】 無
請求項（抜粋）：
固形成分1〜80重量%および溶媒20〜99重量%を含む感放射線性組成物であって、下記a)およびb):
a)炭素数5〜45の芳香族ケトンまたは芳香族アルデヒドと、炭素数6〜15であり1〜3個のフェノール性水酸基を含有する化合物との縮合反応から得られたポリフェノール化合物(A)の、少なくとも1つのフェノール性水酸基に酸解離性官能基を導入した構造を有し、
b)分子量が300〜3000
の条件を満たす化合物(B)を含み、化合物(B)と溶解促進剤の総和が固形成分の全重量を基準として50〜99.999重量%であることを特徴とする感放射線性組成物。
IPC (3件)：
G03F7/004
, G03F7/039
, H01L21/027
G03F7/004 501
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AA10
, 2H025AB16
, 2H025AC01
, 2H025AC04
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CC03
, 2H025CC20
出願人引用 (23件)
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審査官引用 (9件)
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