高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法

発明者： , , , , , , , , , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (2件)：小島隆司 , 西川裕子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-140211
公開番号（公開出願番号）：特開2002-338690
特許番号：特許第3931951号
出願日： 2001年05月10日
公開日（公表日）： 2002年11月27日
請求項（抜粋）：

【請求項1】下記一般式(1)で示される繰り返し単位を有する重量平均分子量1,000〜100,000の高分子化合物。 (式中、R1はメチレン基、エチレン基又はプロピレン基である。R2は酸不安定基であり、R3はフッ素原子又は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状もしくは環状のフッ素化されたアルキル基であり、1≦m≦3、1≦n≦4、m+n≦5の範囲である。)

IPC (5件)：

C08G 77/24 ( 200 6.01) , G03F 7/039 ( 200 6.01) , G03F 7/075 ( 200 6.01) , G03F 7/40 ( 200 6.01) , H01L 21/027 ( 200 6.01)

FI (5件)：

C08G 77/24 , G03F 7/039 601 , G03F 7/075 511 , G03F 7/40 521 , H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (18件)

ポジ型シリコーンレジスト材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-187885 出願人：日本電信電話株式会社
ポリシロキサン化合物及びポジ型レジスト材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-270580 出願人：信越化学工業株式会社
化学増幅ポジ型レジスト材料
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-104589 出願人：信越化学工業株式会社

全件表示

前のページに戻る