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J-GLOBAL ID:200903078812616697
窒化物系半導体発光素子
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
宮園 博一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002145793
Publication number (International publication number):2003046127
Application date: May. 21, 2002
Publication date: Feb. 14, 2003
Summary:
【要約】【課題】低い駆動電圧で均一な発光を得ることが可能な窒化物系半導体発光素子を提供する。【解決手段】サファイア基板1上に形成されたn型コンタクト層4と、n型コンタクト層4上に形成され、窒化物系半導体(GaNおよびGa0.65In0.35N)からなるMQW発光層5と、MQW発光層5上に形成され、窒化ガリウムよりもバンドギャップの小さい窒化物系半導体層(Ga0.85In0.15N)からなるp型コンタクト層9と、p型コンタクト層9上に形成され、透光性を有するp側電極10とを備える。
Claim (excerpt):
基板上に形成された第1導電型の第1窒化物系半導体層と、前記第1窒化物系半導体層上に形成され、窒化物系半導体からなる発光層と、前記発光層上に形成され、窒化ガリウムよりもバンドギャップの小さい窒化物系半導体層を含む第2導電型のコンタクト層と、前記コンタクト層上に形成され、透光性を有する電極とを備えた、窒化物系半導体発光素子。
IPC (2):
H01L 33/00
, H01L 21/28 301
FI (3):
H01L 33/00 C
, H01L 33/00 E
, H01L 21/28 301 B
F-Term (16):
4M104AA04
, 4M104BB02
, 4M104BB07
, 4M104BB14
, 4M104CC01
, 4M104GG04
, 4M104HH15
, 5F041AA05
, 5F041AA24
, 5F041CA04
, 5F041CA05
, 5F041CA40
, 5F041CA83
, 5F041CA88
, 5F041CA92
, 5F041CA99
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (17)
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半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-233179
Applicant:ローム株式会社
-
窒化ガリウム系化合物半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-302447
Applicant:松下電器産業株式会社
-
窒化ガリウム系化合物半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-132269
Applicant:松下電器産業株式会社
-
窒化ガリウム系化合物半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-348078
Applicant:松下電器産業株式会社
-
半導体レーザ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-199390
Applicant:富士通株式会社
-
窒化物半導体素子及び半導体レーザダイオード
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-056870
Applicant:日亜化学工業株式会社
-
窒化物系半導体素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-318148
Applicant:株式会社東芝
-
窒化物半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-317844
Applicant:日亜化学工業株式会社
-
窒化物半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-281170
Applicant:日亜化学工業株式会社
-
p型窒化ガリウム系化合物半導体用オーミック電極及びそれを用いた発光素子並びにその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-038699
Applicant:三洋電機株式会社
-
半導体光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-081948
Applicant:豊田合成株式会社
-
半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-057235
Applicant:シャープ株式会社
-
半導体発光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-135220
Applicant:旭化成工業株式会社
-
窒化物半導体素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-022196
Applicant:日亜化学工業株式会社
-
半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-253740
Applicant:シャープ株式会社
-
半導体層形成用基板とそれを利用した半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-228903
Applicant:独立行政法人物質・材料研究機構, 京セラ株式会社, 大谷茂樹, 須田淳
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III族窒化物エピタキシャル基板及びその使用方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-266804
Applicant:日本碍子株式会社
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