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J-GLOBAL ID:200903038997581698
携帯型大気圧プラズマ発生装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
木幡 行雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006022313
Publication number (International publication number):2007207475
Application date: Jan. 31, 2006
Publication date: Aug. 16, 2007
Summary:
【課題】ガス流量を抑えて大気圧プラズマを安定に維持し、その発光分析により所望のガス励起状態を得る携帯型大気圧プラズマ発生装置の提供。【解決手段】外部絶縁管8に軸方向移動可能に配した接地電極4及びその先端に固設した補助電極4aと、外部絶縁管8の軸心に配した内部絶縁管9と、その内部に配した電力電極3と、外部絶縁管8の後端に配したガス導入用のラバルノズル1と、外部絶縁管8先端のプラズマガス吹出口とで構成し、ガス供給部A-4から供給されたプラズマ生成ガスをラバルノズル1から外部絶縁管8内に導入し、接地電極4及び補助電極4aと電力電極3との間に、プログラマブル高周波電源部A-1により放電用の高周波電力を供給し、かつ電力電極3と被処理物7との間に、パルスバイアス電源A-2により、パルスバイアス電圧を印加してプラズマを発生させるように構成した。【選択図】図3
Claim (excerpt):
外部絶縁管の外周部にその軸方向に移動可能に配した接地電極と、前記外部絶縁管の外周部先端に配した、前記接地電極と同電位の補助電極と、前記外部絶縁管の軸心に沿って配した内部絶縁管と、前記内部絶縁管内に配した電力電極であって、後記高速ノズルから導入したガスが電離して生成したプラズマガスに、その一部又は全部を接触させるように構成した電力電極と、前記外部絶縁管の後端に配したガス導入用の高速ノズルと、前記外部絶縁管の先端に開口したプラズマガスの吹出口とで構成し、
前記高速ノズルから前記外部絶縁管内にプラズマ生成用のガスを導入すべく、ガス供給部から該高速ノズルにプラズマ生成用のガスを供給し、かつ前記接地電極及び前記補助電極と前記電力電極との間に、プログラマブル高周波電源により放電用の高周波電力を供給するように構成した携帯型大気圧プラズマ発生装置。
IPC (1):
FI (1):
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
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特許第2589599号公報
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特許第3207469号公報
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プラズマ処理装置及びプラズマ点灯方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-193415
Applicant:松下電工株式会社
Cited by examiner (21)
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プラズマ処理装置及びプラズマ点灯方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-193415
Applicant:松下電工株式会社
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放電の始動方法、この始動方法を利用した被処理物の処理方法、及びこの始動方法を利用した被処理物の処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-381480
Applicant:ユースエンジニアリング株式会社
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プラズマ発生方法及びプラズマ発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-351189
Applicant:松下電器産業株式会社
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特開平3-219082
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大気圧で低温プラズマを発生させる装置
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2002-565398
Applicant:エスイー・プラズマ・インコーポレーテッド
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表面処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-110679
Applicant:独立行政法人科学技術振興機構
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プラズマ発生方法及び装置並びにオゾン発生方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-344717
Applicant:松下電器産業株式会社
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パルス電圧印加方式プラズマ発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-368081
Applicant:株式会社モリエンジニアリング
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プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-109253
Applicant:松下電工株式会社
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プラズマ処理方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-303353
Applicant:松下電器産業株式会社
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ガスバリア性フィルム及びその製造方法並びにその製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-371728
Applicant:凸版印刷株式会社
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表面改質方法及び表面改質装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-196924
Applicant:工業技術院長, 株式会社栗田製作所
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誘導結合プラズマ発光分光分析装置と方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-125880
Applicant:セイコーインスツルメンツ株式会社
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X線マスクの製造方法およびその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-236801
Applicant:日本電信電話株式会社
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大気圧プラズマ生成方法および装置並びに表面処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-169010
Applicant:セイコーエプソン株式会社
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プラズマ処理装置及びプラズマ点灯方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-303115
Applicant:松下電工株式会社
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保護膜付きターゲットおよび表面処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-008566
Applicant:住友金属鉱山株式会社
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プラズマトーチ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-212603
Applicant:新日本製鐵株式会社
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半導体装置およびその実装方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-180728
Applicant:松下電器産業株式会社
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プラズマ表面処理方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-082646
Applicant:独立行政法人科学技術振興機構
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携帯型プラズマ発生システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-022321
Applicant:佐藤直幸, 有限会社飛田理化硝子製作所, 多賀電気株式会社, スターエンジニアリング株式会社, 有限会社テクノ・サポート, エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社
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