特許
J-GLOBAL ID：200903061493863490
偏向収差補正電圧の演算方法及び荷電粒子ビーム描画方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
松山 允之
, 河西 祐一
, 池上 徹真
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-003762
公開番号（公開出願番号）：特開2007-188950
出願日： 2006年01月11日
公開日（公表日）： 2007年07月26日
要約：
【目的】偏向収差の補正残差の確認を容易にすると共に、より適当な偏向収差の補正電圧を求める方法および描画方法を提供することを目的とする。【構成】本発明の一態様の偏向収差補正電圧の演算方法は、複数のフォーカス高さ位置で所定のパターンを描画する描画工程(S104)と、各所定のパターンの寸法変動量を測定する寸法変動量測定工程(S106)と、寸法変動量を用いて、実効分解能を演算する実効分解能演算工程(S110)と、実効分解能が最小となるフォーカス高さ位置に基づいて、電子ビームの偏向収差補正電圧を演算する補正電圧演算工程(S304)と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、より適当な偏向収差の補正電圧を求めることができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
複数のフォーカス高さ位置で所定のパターンを描画する描画工程と、
前記複数のフォーカス高さ位置で描画された各所定のパターンの幅寸法の寸法変動量を測定する寸法変動量測定工程と、
前記寸法変動量を用いて、描画された各所定のパターンの実効分解能を演算する実効分解能演算工程と、
各所定のパターンの実効分解能が最小となるフォーカス高さ位置に基づいて、荷電粒子ビームを偏向する場合の偏向収差を補正する補正電圧を演算する補正電圧演算工程と、
を備えたことを特徴とする偏向収差補正電圧の演算方法。
IPC (5件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20
, H01J 37/305
, H01J 37/147
, G21K 5/04
H01L21/30 541D
, G03F7/20 504
, H01J37/305 B
, H01J37/147 C
, G21K5/04 M
, G21K5/04 C
2H097BA10
, 2H097CA16
, 2H097LA10
, 5C033GG05
, 5C034BB08
, 5F056CB11
, 5F056CB29
, 5F056CB30
, 5F056CB32
, 5F056CC02
出願人引用 (1件)
審査官引用 (20件)
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引用文献：
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