特許
J-GLOBAL ID：200903094755613010
極端紫外線用レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (6件)：
熊倉 禎男
, 小川 信夫
, 箱田 篤
, 浅井 賢治
, 平山 孝二
, 松田 七重
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-066513
公開番号（公開出願番号）：特開2007-241121
出願日： 2006年03月10日
公開日（公表日）： 2007年09月20日
要約：
【課題】感度及びラインエッジラフネスを向上させたEUV用レジスト組成物を提供すること。【解決手段】シェル部がビニル安息香酸tertブチルエステル等の酸分解性の繰り返し単位を有するコアシェル型ハイパーブランチポリマーと、下記式で表される光酸発生剤とを含有するレジスト組成物。(式中、R9は置換されてもよい水素原子、炭素数1〜10の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、又は炭素数6〜30のアリール基を表す。R10及びR11は炭素数1〜6の直鎖状、分岐状もしくは環状の少なくとも1個以上のフッ素原子を含むアルキル基を示すか、或いは互いに一緒になって環を形成してもよい。)
請求項（抜粋）：
少なくとも下記式(I)で表されるモノマーを重合させてなるコア部と下記式(II)及び/又は下記式(III)で表される繰り返し単位を含有するシェル部とを有するコアシェル構造を有する1種以上のハイパーブランチポリマーと、下記式(IV)、(V)、(VI)又は(VII)で表される1種以上の光酸発生剤とを含有することを特徴とする極端紫外線用レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039
, G03F 7/004
, H01L 21/027
G03F7/039 601
, G03F7/004 501
, G03F7/004 503A
, H01L21/30 502R
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025BJ10
, 2H025CB14
, 2H025CB16
, 2H025CB17
, 2H025CB41
, 2H025CB54
, 2H025CC20
