特許
J-GLOBAL ID：200903044536092873
高純度ガスハイドレート製造方法及び製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-276026
公開番号（公開出願番号）：特開2008-094900
出願日： 2006年10月10日
公開日（公表日）： 2008年04月24日
要約：
【課題】ガスハイドレート原料を十分に攪拌・混合操作を行うことができ、絶えず気泡界面または水滴および氷粒子表面に形成されたハイドレートを形成し、該ハイドレートを分離除去してハイドレートを取り出し、継続的にハイドレートを製造できる新規な製造方法及びその製造装置の提供。【解決手段】ハイドレート形成条件の温度圧力に保たれている条件下、ハイドレートを形成する液体を頂部から、一方、ハイドレートを形成する気体を気泡又は液胞として底部から、ハイドレートを形成する液体の下降流速を、ハイドレートを形成する気体の気泡又は液胞の上昇速度よりも遅い条件下で対向して供給後、両者を接触させて、ハイドレートを形成させ、形成されたハイドレートは小粒径のハイドレート粒子となり、下降するハイドレートを形成し、ハイドレートを形成する液体の流速と密度とハイドレートを形成する気体の流速と密度の差により順次下降させて取り出す。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
ハイドレート形成条件の温度圧力に保たれている条件下に、ハイドレートを形成する液体を頂部から、一方、ハイドレートを形成する気体を気泡又は液胞として底部から、ハイドレートを形成する液体の下降流速を、ハイドレートを形成する気体の気泡又は液胞の上昇速度よりも遅い条件下で対向して供給後、両者を接触させて、ハイドレートを形成させ、形成されたハイドレートは小粒径のハイドレート粒子となり、下降するハイドレートを形成し、ハイドレートを形成する液体の流速と密度とハイドレートを形成する気体の流速と密度の差により順次下降させ、底部よりハイドレートを含むハイドレートを形成する液体を取り出し、一方、ハイドレート形成後にあってハイドレート形成に関与しなかった、ハイドレートを形成する気体は気泡又は液胞として上昇を続け、頂部より取り出すことを特徴とするハイドレートの製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (6件)：
4H006AA02
, 4H006AA04
, 4H006AA05
, 4H006AC93
, 4H006AD33
, 4H006BD80
出願人引用 (25件)
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審査官引用 (3件)
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